Корзина пуста.
Вакуумная установка термического испарения применяется для нанесения тонких металлических, диэлектрических или композитных покрытий на различные материалы путем испарения вещества в вакууме и конденсации его паров на поверхности подложки. Этот метод широко используется в микроэлектронике, оптике, нанотехнологиях и других областях, где требуется создание тонкопленочных структур с заданными свойствами.
Вакуумная установка термического испарения
Отображение единственного товара
-
Вакуумная установка термического испарения
CY-EVZ254-II-HH-SS Вакуумная установка термического испарения
Вакуумная установка термического испаренияCY-EVZ254-II-HH-SS Вакуумная установка термического испарения
Особенности:
- CY-EVZ254-II-HH-SS Вакуумная установка термического испарения представляет собой небольшую настольную установку для нанесения покрытий методом термического испарения, специально разработанную для высокого вакуума.
- Размер полости – φ254мм×300мм
- Она может обеспечивать максимальный ток покрытия 100 А, максимальную температуру испарения до 1800 ℃ и может соответствовать испарению различных распространенных металлов и части неметаллов.
- Вакуумная камера изготовлена из нержавеющей стали и была дегазирована перед поставкой. Она может достигать предельного вакуума 5×10 -5 Па с молекулярной насосной группой, что может соответствовать вакуумной среде, необходимой для испарения большинства материалов.
- Вакуумная камера открывается путем подъема крышки для облегчения подъема. Камера оснащена адаптивным смотровым окном с перегородкой для наблюдения за процессом покрытия.
- Перегородка может эффективно предотвращать загрязнение смотрового окна материалом пленки.
SKU: n/a