AC300 Лабораторная вакуумная установка для нанесения тонких пленок и фоторезиста до 300 мм

Особенности

• 7-дюймовая ЖК-панель с инструкцией по эксплуатации на английском языке
• Конструкция закрытой камеры из Телона/полиэтилена, подходящая для нанесения различных покрытий на образцы.
• Максимальная скорость нанесения покрытия может достигать 10000 об/мин, также можно сделать индивидуальный заказ.
• Серводвигатель, больше стабильности
• Система вытяжки и откачки в нижней части сцены для эффективной вытяжки и однородности покрытия.

Особенности:

• Система нанесения покрытий методом магнетронного распыления с тремя мишенями может использоваться для изготовления однослойных или многослойных сегнетоэлектрических пленок, проводящих пленок, пленок сплавов, полупроводниковых пленок, керамических пленок, диэлектрических пленок, оптических пленок, оксидных пленок, твердых пленок, пленок политетрафторэтилена, и т. д.
• По сравнению с аналогичным оборудованием, этот трехмишенный магнетронный распылительный прибор для нанесения покрытий не только широко используется, но и имеет преимущества небольшого размера и простоты эксплуатации. Это идеальное оборудование для подготовки тонких пленок материалов в лабораторных условиях.
• Размеры камеры – Диаметр 300мм×300мм

Особенности:

• Это оборудование CY-MSP190S-1T-UD представляет собой настольный тип с нижней камерой из нержавеющей стали с одной мишенью магнетронного распыления, который может быть использован для подготовки тонких металлических пленок.
• Он используется в области электроники, оптики, подготовки специальной керамики и т. д. Он также может использоваться для подготовки лабораторных образцов для СЭМ.
• Применимый материал мишени для магнетронной мишени – φ50 x толщина 3 мм
• Размеры камеры – внешний диаметр φ194 мм, внутренний диаметр 186 мм x высота 230 мм;