Спин-коатер (центрифуга для нанесения пленок)

Особенности

• 7-дюймовая ЖК-панель с инструкцией по эксплуатации на английском языке
• Конструкция закрытой вакуумной камеры из Телона/полиэтилена, подходящая для нанесения различных покрытий на образцы.
• Максимальная скорость нанесения покрытия может достигать 10000 об/мин, также можно сделать индивидуальный заказ.
• Серводвигатель, больше стабильности
• Система вытяжки и откачки в нижней части сцены для эффективной вытяжки и однородности покрытия.

Особенности

• Максимум для покрытия пластины толщиной 12 дюймов или 300 мм.
• Материал: алюминиевый корпус анодного окисления,
• С тремя алюминиевыми вакуумными патронами: наружный диаметр 8 мм, 15 мм, 55 мм.
• 4,7-дюймовая ЖК-панель на английском языке
• Безмасляный вакуумный насос с низким уровнем шума.
• Серводвигатель, большая стабильность

Особенности

• Лабораторная установка CH-150T предназначена для нанесения и проявления фоторезиста методом центрифугирования, подходит для подложек диаметром до 150 мм или квадратных с размерами до 100х100 мм.
• Матриал: алюминиевый корпус анодного окисления,
• С тремя алюминиевыми вакуумными патронами: 2 дюйма, 4 дюйма, 6 дюймов;
• ЖК-панель на английском языке
• Безмасляный вакуумный насос с низким уровнем шума

Особенности:

• 8-дюймовая машина для запекания клея для пластин в основном используется в процессе фотолитографии в производстве полупроводников.
• Размер нагревательной панели 340×340 мм квадрат
• Равномерный нагрев: обеспечение равномерной температуры на поверхности пластины.
• Точный контроль температуры: высокая точность контроля температуры для соответствия различным требованиям процесса.
• Эффективное производство: поддержка одновременной обработки нескольких пластин для повышения эффективности.
• Удаление растворителя: испаряет растворитель в фоторезисте путем нагрева для улучшения адгезии.
• Улучшение стабильности: отверждение фоторезиста и улучшение его стабильности в последующих процессах.
• Оптимизация переноса рисунка: обеспечение равномерной выдержки фоторезиста и повышение точности переноса рисунка.
• Повышение коррозионной стойкости фоторезиста при травлении и ионной имплантации.

Особенности:

• Это оборудование CY-MSP190S-1T-UD представляет собой настольный тип с нижней камерой из нержавеющей стали с одной мишенью магнетронного распыления, который может быть использован для подготовки тонких металлических пленок.
• Он используется в области электроники, оптики, подготовки специальной керамики и т. д. Он также может использоваться для подготовки лабораторных образцов для СЭМ.
• Применимый материал мишени для магнетронной мишени – φ50 x толщина 3 мм
• Размеры камеры – внешний диаметр φ194 мм, внутренний диаметр 186 мм x высота 230 мм;

Особенности

• 7-дюймовая ЖК-панель с инструкцией по эксплуатации на английском языке
• Конструкция закрытой камеры из Телона/полиэтилена, подходящая для нанесения различных покрытий на образцы.
• Максимальная скорость нанесения покрытия может достигать 10000 об/мин, также можно сделать индивидуальный заказ.
• Серводвигатель, больше стабильности
• Система вытяжки и откачки в нижней части сцены для эффективной вытяжки и однородности покрытия.

Особенности

• 7-дюймовая ЖК-панель с инструкцией по эксплуатации на английском языке
• Корпус камеры изготовлен из нержавеющей стали
• Конструкция закрытой камеры из Телона/полиэтилена, подходящая для нанесения различных покрытий на образцы.
• Максимальная скорость нанесения покрытия может достигать 10000 об/мин, также можно сделать индивидуальный заказ.
• Серводвигатель, больше стабильности
• Система вытяжки и откачки в нижней части сцены для эффективной вытяжки и однородности покрытия.

Особенности

• Максимум для покрытия пластины шириной 100 мм.
• Материал: алюминиевый корпус анодного окисления,
• С тремя алюминиевыми вакуумными патронами: наружный диаметр 8 мм, 15 мм, 55 мм.
• ЖК-панель на английском языке
• Безмасляный вакуумный насос с низким уровнем шума

• Этот тип центрифугирующего устройства разработан небольшим, и весь корпус имеет структуру из алюминиевого сплава.
• Макс. образец пластины Диаметр ≤ 4 дюйма (100 мм)
• Верхняя крышка полости изготовлена ​​из плексигласа, а внешний вид красивый и прочный.
• Центрифугирующее устройство использует передовой прецизионный двигатель, максимальная скорость может достигать 8000 об/мин;
• управление осуществляется с помощью кнопки и ЖК-экрана высокой яркости, в дополнение к прямому центрифугированию, оно может предварительно сохранять кривую центрифугирования для программно-управляемого центрифугирования.
• Прибор эффективно гарантирует производительность и функциональность инструмента при условии значительного уменьшения объема, что очень подходит для лабораторной покупки.
• Применение малого центрифугирующего устройства: Центрифугирующее устройство может наносить жидкие или коллоидные материалы на кремниевые пластины, кристаллы, кварц, керамику и другие подложки для формирования тонких пленок.
• Он в основном используется для центрифугирования фоторезиста, подготовки биологической среды, золь-гель метода для производства полимерной пленки и т. д.

Особенности

• Максимум для покрытия пластины шириной 100 мм.
• Материал: алюминиевый корпус анодного окисления,
• С тремя алюминиевыми вакуумными патронами: наружный диаметр 8 мм, 15 мм, 55 мм.
• ЖК-панель на английском языке
• Безмасляный вакуумный насос с низким уровнем шума

Особенности

• 7-дюймовая ЖК-панель на английском языке
• Размеры пластин/подложек – 10~30 мм
• Максимальная температура нагрева 200 градусов
• Конструкция закрытой вакуумной камеры из Тефлона/полиэтилена, подходящая для нанесения различных покрытий на образцы.
• Максимальная скорость нанесения покрытия может достигать 8000 об/мин, также можно сделать заказ по индивидуальному заказу.
• Серводвигатель, больше стабильности

Особенности

• Скорость толкания может варьироваться от 0 до 100 мм/сек, чтобы обеспечить наиболее подходящие условия нанесения для всех материалов покрытия
• Толстая плоская пластина из закаленного стекла для поддержки
• Встроенная толкающая планка для использования аппликатора с микрометрической регулировкой или рамки для пленки.
• Регулируемый позиционный переключатель позволяет установить ход от 10 до 600 мм.
• В комплект поставки входит один регулируемый микрометрический ракелm для пленки шириной 250 мм.
• Уникальная система привода для получения гладкого покрытия на всех типах материалов 250×500 мм