Настольная установка для нанесения покрытий магнетронным распылением
Настольная установка для нанесения покрытий магнетронным распылением
Настольная установка для нанесения покрытий магнетронным распылением

Настольная установка для нанесения покрытий магнетронным распылением

Наличие:

Доступно для предзаказа

Особенности

  • Настольная  установка для магнетронного  напыления с одной целью – это высокопроизводительное оборудование для магнетронного напыления, независимо разработанное нашей компанией, которое обладает характеристиками миниатюризации и стандартизации.
  • Мишень магнетрона может быть выбрана из 1 дюйма или 2 дюймов, и клиенты могут выбирать в зависимости от размера подложки, на которую будет нанесено покрытие;
  • Источник питания представляет собой источник постоянного тока мощностью 150 Вт, который можно использовать для напыления металла.
  • Устройство для нанесения покрытий оснащено вентиляционным отверстием, которое можно заполнить защитным газом. Если заказчику необходимо смешать газ, вы можете связаться с персоналом для настройки высокоточного массового расходомера в соответствии с потребностями эксперимента.
  • Прибор оснащен усовершенствованным турбомолекулярным насосом, предельный вакуум может достигать 1,0E-5Па. Также можно приобрести другие типы молекулярных насосов.

Доступно для предзаказа

Настольная установка для нанесения покрытий магнетронным распылением с одной целью – это высокопроизводительное оборудование для магнетронного напыления, независимо разработанное нашей компанией, которое обладает характеристиками миниатюризации и стандартизации.

Область применения настольного одноцелевого магнетронного распылителя:

  • Оборудование можно использовать для изготовления однослойных сегнетоэлектрических пленок, проводящих пленок, пленок из сплавов и т. д.
  • По сравнению с аналогичным оборудованием, этот прибор для одномишеневого магнетронного напыления имеет компактную конструкцию, высокую степень интеграции, компактность и может быть размещен на стол для использования. Это идеальное оборудование для подготовки пленок материалов в лаборатории.
Категория: Метка:
Модель Настольная установка для нанесения покрытий магнетронным распылением
Таблица образцов возвратно-поступательного движения Размер 50×100 мм
Скорость возвратно-поступательного движения 0~50 мм/с
Магнетронная мишенная пушка Головная плоскость цели Круглая плоская мишень
Напыление вакуумное 10 Па ~ 0,2 Па
Диаметр цели 2 дюйма
Целевая толщина Рекомендуется 2~5 мм
Целевая температура головки ≦ 65 ℃
Вакуумная камера Размер камеры Φ180 мм x В 215 мм
Материал камеры Кварц высокой чистоты
Окно наблюдения Всенаправленная прозрачность
Способ открытия Съемная верхняя крышка
Источник питания источник постоянного тока 150 Вт макс.
Количество 1
Молекулярная насосная система Форвакуумный насос Роторно-лопастной насос VRD-4
Скорость откачки 1,1 л/с
Предельный вакуум 5*10 -1 Па
Молекулярный насос Молекулярная скорость откачки 600л/с
Номинальная скорость 24000 об/мин
Предельный вакуум 5*10 -5 Па
Значение вибрации ≦ 0,1 мкм
Время начала ≦ 4,5 мин.
Время простоя <7 минут
метод охлаждения Водяное охлаждение + воздушное охлаждение
Охладитель воды Температура охлаждающей воды ≦ 37 ℃
Расход охлаждающей воды 10л/мин
Напряжение питания 220 В переменного тока, 50 Гц

Похожие товары