Раздельная высоковакуумная установка магнетронного распыления с тремя мишенями
TN-MSH325-III-DCDCRF-SS Раздельная высоковакуумная установка магнетронного распыления с тремя мишенями
TN-MSH325-III-DCDCRF-SS Раздельная высоковакуумная установка магнетронного распыления с тремя мишенями
TN-MSH325-III-DCDCRF-SS Раздельная высоковакуумная установка магнетронного распыления с тремя мишенями
TN-MSH325-III-DCDCRF-SS Раздельная высоковакуумная установка магнетронного распыления с тремя мишенями
TN-MSH325-III-DCDCRF-SS Раздельная высоковакуумная установка магнетронного распыления с тремя мишенями
Раздельная высоковакуумная установка магнетронного распыления с тремя мишенями

TN-MSH325-III-DCDCRF-SS Раздельная высоковакуумная установка магнетронного распыления с тремя мишенями

Наличие:

Доступно для предзаказа

Особенности:

  • Система нанесения покрытий методом магнетронного распыления с тремя мишенями может использоваться для изготовления однослойных или многослойных сегнетоэлектрических тонких пленок, проводящих тонких пленок, тонких пленок сплавов и т. д.
  • По сравнению с аналогичным оборудованием, этот трехмишенный магнетронный распылительный прибор для нанесения покрытий не только широко используется, но и имеет преимущества небольшого размера и простоты эксплуатации. Это идеальное оборудование для подготовки тонких пленок материалов в лабораторных условиях.
  • Размеры образца – φ 150 мм
  • Размер камеры – φ 325 мм

Доступно для предзаказа

Система нанесения покрытий методом магнетронного распыления с тремя мишенями может использоваться для изготовления однослойных или многослойных сегнетоэлектрических тонких пленок, проводящих тонких пленок, тонких пленок сплавов и т. д.

По сравнению с аналогичным оборудованием, этот трехмишенный магнетронный распылительный прибор для нанесения покрытий не только широко используется, но и имеет преимущества небольшого размера и простоты эксплуатации. Это идеальное оборудование для подготовки тонких пленок материалов в лабораторных условиях.

Категория:
Модель продукта TN-MSH325-III-DCDCRF-SS Сплит-высоковакуумный трехмишенный магнетронный распылительный прибор для нанесения покрытий
Системный вакуум ≦ 5 × 10-4Па
Образец Размеры φ 150 мм
Температура нагрева ≦ 850 ℃
Точность контроля температуры ± 1 ℃
Регулируемая скорость ≦ 20 об/мин
Магнитная мишень Размер цели Диаметр Φ 50,8 мм , толщина ≦ 3 мм
Режим охлаждения Охлаждение циркулирующей водой
Расход воды Не менее 10л/мин
Количество 3 мишени
Вакуумная камера Размер камеры Диаметр φ 325 мм
Материал полости нержавеющая сталь SUU304
Окно наблюдения Диаметр φ 100 мм
Как открыть Верхнее отверстие
Газовый контроль Одноходовой массовый расходомер используется для контроля расхода Ar с диапазоном : 200SCCM
Вакуумная система Оснащен 1 комплектом молекулярной насосной системы , скорость откачки газа 600 л/с
Измерение толщины пленки Опциональный кварцевый измеритель толщины пленки с разрешением 0,10 Å
Источник питания для распыления Оснащен блоком питания постоянного тока мощностью 500 Вт*2, блоком питания RF мощностью 300 Вт
Система управления Профессиональная система управления собственной разработки CYKY
Напряжение питания 220 В переменного тока , 50 Гц
Мощность 6КВт
Габаритные размеры (ДxШxВ) 570x1040x1700мм
Вес Нетто/Брутто 350/440 Кг

Похожие товары