CY-IV500-25KW-SS-DX Печь направленной кристаллизации 2200℃
CY-IV500-25KW-SS-DX Печь направленной кристаллизации 2200℃
CY-IV500-25KW-SS-DX Печь направленной кристаллизации 2200℃

CY-IV500-25KW-SS-DX Печь направленной кристаллизации 2200℃

Наличие:

Доступно для предзаказа

Особенности:

  • CY-IV500-25KW-SS-DX Печь направленной кристаллизации 2200℃ использует принцип индукционного нагрева средней частоты для спекания тугоплавких металлов, цементированного карбида, керамики из карбида кремния и других материалов в условиях вакуума или защитной атмосферы.
  • Оборудование обычно имеет вертикальную конструкцию печи, включающую корпус печи, датчик нагрева (в качестве нагревательного элемента выбирается графит или сопротивление), нагревательно-изоляционный слой, направленный кристаллизатор и мобильный подъемный механизм, рабочую платформу, систему накачки, источник питания и систему управления.
  • Принцип работы печи направленной кристаллизации заключается в постепенном затвердевании материала в материал с определенной кристаллической структурой путем управления градиентом температуры и скоростью роста кристаллов.
  • Эти материалы имеют различную кристаллическую структуру и свойства и широко используются в аэрокосмической, оптоэлектронной, полупроводниковой, строительной, автомобильной, электронной и других отраслях промышленности.

Доступно для предзаказа

CY-IV500-25KW-SS-DX Печь направленной кристаллизации 2200℃ использует принцип индукционного нагрева средней частоты для спекания тугоплавких металлов, цементированного карбида, керамики из карбида кремния и других материалов в условиях вакуума или защитной атмосферы.
Смотреть похожее оборудование …

Категория:
Модель CY-IV500-25KW-SS-DX Печь направленной кристаллизации 2200℃
Вакуумная индукционная плавильная печь
Применение: Это оборудование может использоваться как печь направленной кристаллизации или вакуумной плавки. При использовании в качестве вакуумной плавильной печи необходимо только накрыть охлаждающий бассейн.
Толщина стержня Φ10мм 、Φ20мм
Макс. температура нагрева 2200 ℃
Номинальная температура 2100 ℃
Внутренний диаметр нагревательного элемента (вольфрам, тантал) Диаметр 40×90 мм
Источник питания высокочастотного нагрева Использовать блок питания Источник питания высокочастотного нагрева
Частота колебаний 30-80КГц
Максимальная входная мощность 25КВт
Ток нагрева 2-52А
Требования к охлаждающей воде ≥0,2МПа ≥6л/м
Вес блока питания 35КГ
длительность нагрузки 100%
Входное напряжение Трехфазный 380 В 50 или 60 Гц
метод нагрева   Индукционный нагрев
Внутренний диаметр полости 500мм
Тигель направленной кристаллизации Стандартный графит
Защитная крышка тигля Защитный кожух из циркониевого кварца или поликристаллического волокна оксида алюминия или нитрида бора
Камерный вакуум (молекулярный насосный агрегат) < 6X10  -4 Па
Давление в камере накачивания < 0,05МПа
Скорость повышения <4Па/с
Защита от выгорания и дисплей да
Защита от перегрева да
Защита от сверхтоков да
Защита от пониженного напряжения (давление воды) да
Режим контроля температуры Смарт ПИД
точность управления ±1~ 5 ℃ ( выше 600 ℃ )
Метод определения температуры  Импортный инфракрасный термометр, диапазон температур 1000~3200℃
Технические решения: На индукционную катушку надевается защитный рукав, а защитный рукав обертывается углеродным войлоком для повышения теплоизоляционных свойств. Внутренняя сторона углеродного войлока представляет собой слой блестящего танталового листа, который может отражать тепло обратно к нагревательному элементу. Внутренняя сторона танталового листа представляет собой вольфрамовый нагревательный элемент, а в нагревательный элемент помещается тигель. Тигель устанавливается на стержень направленной кристаллизации. Нагревательный элемент нагревается индукцией. Между нагревательным элементом и охлаждающей ванной существует поле градиента температуры. После того, как материал в тигле нагрет и расплавлен, он медленно опускается вместе со стержнем направленной кристаллизации. Расплавленный материал равномерно падает в этом поле градиента температуры, кристаллическая решетка перестраивается и затвердевает в определенном порядке, образуя упорядоченный кристалл.
Механизм направленного затвердевания Ход и скорость направленного затвердевания можно контролировать с помощью левого сенсорного экрана, диапазон скоростей составляет 0,1 мкм/с~2000 мкм/с.
Можно ли подключить к вакуумной камере тигель с водяным охлаждением? да
Размер смотрового окна  Диаметр 90мм
Вакуумный блок Входное напряжение блока 380В/220В
мехи КФ40Х1000
Вакуумный клапан-откидка КФ40
Вакуумный насос передней машины BSV30 власть 0,75 кВт
Напряжение 380В
Скорость вращения 1450об/мин
Диаметр воздухозаборника КФ25/КФ40
Скорость подачи переднего насоса (л/с) 8
предельное давление 5X10  -1 Па
Композитный вакуумметр Композитная модель вакуумметра ЗДФ
источник питания 220В 55Вт
точность управления ± 1%
Диапазон измерения вакуумметра 10 -5  -10  5  Па
Вторичный насос для молекулярных насосов
(Вариант первый)		 Молекулярный насос
(Степень вакуума в полости может быть откачана до 6X10E-4Па)		 Модель молекулярного насоса FJ620
Входное напряжение 220В
Фланец воздухозаборника молекулярного насоса Ду160
Скорость откачки молекулярного насоса L/S (в воздух)   600
Предельное давление молекулярного насоса (Па) 6×10 -7
метод охлаждения водяное охлаждение
Давление охлаждающей воды (МПа) 0,1-0,2
Температура охлаждающей воды <25℃
температура окружающей среды 0~40℃
Рекомендуемое начальное давление <10Па
Вторичный насос — диффузионный насос.
(Вариант II)		 диффузионный насос
Степень вакуума в полости может быть откачана до 5X10E-3Па)		 Напряжение 220В
власть 1000 Вт
Предельная степень вакуума (при отсутствии утечек)  10E-5Па
Интерфейс воздухозаборника Ду150
Интерфейс выхода воздуха Ду40
Количество впрыскиваемого масла 0.3л
Скорость откачки (N2) 1000л/с
 Кулер для воды (опционально) Источник питания 3Ф-380В/50Гц
Максимальная подъемная сила 40М
Максимальный поток 16л/мин
Емкость резервуара для воды 60л
Холодопроизводительность 10 3 Ккал/ч
вход и выход воды Rp1/2”
Габаритные размеры (ДxШxВ) 1150x520x1145 мм

Похожие товары