CY-SP4-PMMA Лабораторная установка для нанесения тонких пленок и фоторезиста
EZ4 Лабораторная установка для нанесения тонких пленок и фоторезиста
EZ4 Лабораторная установка для нанесения тонких пленок и фоторезиста
EZ4 Лабораторная установка для нанесения тонких пленок и фоторезиста
EZ4 Лабораторная установка для нанесения тонких пленок и фоторезиста
EZ4 Лабораторная установка для нанесения тонких пленок и фоторезиста
EZ4 Лабораторная установка для нанесения тонких пленок и фоторезиста
EZ4 Лабораторная установка для нанесения тонких пленок и фоторезиста

CY-SP4-PMMA спин-коутер, размер подложки диаметр 100 мм

Наличие:

Доступно для предзаказа

Особенности:
  • Этот тип центрифугирующего устройства разработан небольшим, и весь корпус имеет структуру из алюминиевого сплава.
  • Макс. образец пластины Диаметр ≤ 4 дюйма (100 мм)
  • Верхняя крышка полости изготовлена ​​из плексигласа, а внешний вид красивый и прочный.
  • Центрифугирующее устройство использует передовой прецизионный двигатель, максимальная скорость может достигать 8000 об/мин;
  • управление осуществляется с помощью кнопки и ЖК-экрана высокой яркости, в дополнение к прямому центрифугированию, оно может предварительно сохранять кривую центрифугирования для программно-управляемого центрифугирования.
  • Прибор эффективно гарантирует производительность и функциональность инструмента при условии значительного уменьшения объема, что очень подходит для лабораторной покупки.
  • Применение малого центрифугирующего устройства: Центрифугирующее устройство может наносить жидкие или коллоидные материалы на кремниевые пластины, кристаллы, кварц, керамику и другие подложки для формирования тонких пленок.
  • Он в основном используется для центрифугирования фоторезиста, подготовки биологической среды, золь-гель метода для производства полимерной пленки и т. д.

Доступно для предзаказа

CY-SP4-PMMA спин-коутер, размер подложки диаметр 100 мм предназначен для нанесения и проявления фоторезиста методом центрифугирования, подходит для подложек диаметром до 100 мм или с размерами до 75х75 мм.

Установка является экономичным решением для лабораторного применения.

CY-SP4-PMMA – настольная система проявления фоторезиста, которая имеет компактный размер и может быть установлена в различные лаборатории и другие учреждения, где требуется миниатюрные инструменты для работы с фоторезистом.

Категория:
Модель CY-SP4-PMMA спин-коутер, размер подложки диаметр ≤ 4 дюйма (100 мм)
Макс. образец пластины Диаметр ≤ 4 дюйма (100 мм)
Скорость вращения 0~8000 об/мин
Ускорение 100~5000 об/мин/с
Скорость разрешение 1 об/мин
Время одного шага 3000 сек
Материал камеры Кварц
Метод работы Кнопка + ЖК-экран
Метод дозирования Ручное дозирование, опциональный прецизионный шприцевой насос
Кривая покрытия 5 сегментов на кривую, всего можно создать 5 кривых сохранено
Отверстие для накачки Быстрое винтовое соединение Φ6 мм
Выхлопная система
Вакуумный насос Сухой механический насос
Скорость накачки 1,1 л/с
Источник питания 220 В переменного тока, 50 Гц
Габаритные размеры (ДxШxВ) 210x250x180 мм
Размеры упаковки (ДxШxВ) 420x340x295 мм
Вес Нетто/Брутто 8/13 Кг

Похожие товары