AC200-V Лабораторная вакуумная установка для нанесения тонких пленок и фоторезиста до 200 мм

Наличие:

Доступно для предзаказа


Особенности

  • 7-дюймовая ЖК-панель с инструкцией по эксплуатации на английском языке
  • Конструкция закрытой вакуумной камеры из Телона/полиэтилена, подходящая для нанесения различных покрытий на образцы.
  • Максимальная скорость нанесения покрытия может достигать 10000 об/мин, также можно сделать индивидуальный заказ.
  • Серводвигатель, больше стабильности
  • Система вытяжки и откачки в нижней части сцены для эффективной вытяжки и однородности покрытия.

Доступно для предзаказа

Лабораторная вакуумная установка AC200-V предназначена для нанесения и проявления фоторезиста методом центрифугирования, подходит для подложек диаметром до 200 мм. Установка является экономичным решением для лабораторного применения.
AC200-V – настольная система проявления фоторезиста, которая имеет компактный размер и может быть установлена в различные лаборатории и другие учреждения, где требуется миниатюрные инструменты для работы с фоторезистом.

Модель AC200-V Лабораторная вакуумная установка для нанесения тонких пленок и фоторезиста до 200 мм
Максимальный образец пластины 8 дюймов (200 мм)
Материал камеры ПНД
Вакуумный патрон 3 шт. стандартный вакуумный патрон
Размер: наружный размер 8 мм, 15 мм, 55 мм для немедленного использования.
Возможен заказной вакуумный патрон
Скорость центрифуги 100~12000 об/мин
Диапазон регулировки ускорения 0~50000 об/мин/с
Максимальное время нанесения покрытия на каждом этапе 1-3000 сек (шаг — 1 сек)
Мощность серводвигателя 200 Вт
Контроль вращения Программируемое управление, 100 программируемых с каждыми 100 шагами, можно восстановить
Разрешение вращения 1 об/мин
Источник питания 230В, регулируемый
Габаритные размеры (ДxШxВ) 433x306x306 мм
Вес Нетто/Брутто Кг