Лабораторная установка IC8000 предназначена для нанесения и проявления фоторезиста методом центрифугирования, подходит для подложек пластин/подложек – 10~30 мм. Установка является экономичным решением для лабораторного применения.
IC8000 – настольная система проявления фоторезиста, которая имеет компактный размер и может быть установлена в различные лаборатории и другие учреждения, где требуется миниатюрные инструменты для работы с фоторезистом.
Лабораторная установка для нанесения покрытий
IC8000 Вакуумная установка для нанесения покрытий с нагреваемой пластиной до 200 градусов
Наличие:
Доступно для предзаказа
Особенности
- 7-дюймовая ЖК-панель на английском языке
- Размеры пластин/подложек – 10~30 мм
- Максимальная температура нагрева 200 градусов
- Конструкция закрытой вакуумной камеры из Тефлона/полиэтилена, подходящая для нанесения различных покрытий на образцы.
- Максимальная скорость нанесения покрытия может достигать 8000 об/мин, также можно сделать заказ по индивидуальному заказу.
- Серводвигатель, больше стабильности
Доступно для предзаказа
Модель | IC8000 Вакуумная установка для нанесения покрытий с нагреваемой пластиной до 200 градусов |
---|---|
Размеры пластин/подложек | 10~30 мм |
Материал камеры | ПНД |
Скорость вращения центрифуги | 100~8000 об/мин |
Ускорения вращения | 100~50000 об/мин за секунду |
Макс. время нанесения покрытия | 3000 сек или 50 минут |
Диапазон температур | 20 ~ 200 ℃, точность температуры: <± 0,5 ℃ |
Контроль вращения | Программируемое управление, 100 программируемых с каждыми 100 шагами, можно восстановить |
Разрешение вращения | ±1 об/мин |
Источник питания | AC110-230В, регулируемый |
Габаритные размеры (ДxШxВ) | 268x340x261 мм |
Вес Нетто/Брутто |