AC300 Лабораторная вакуумная установка для нанесения тонких пленок и фоторезиста до 300 мм

Наличие:

Доступно для предзаказа


Особенности

  • Максимум для покрытия пластины толщиной 12 дюймов или 300 мм.
  • Материал: алюминиевый корпус анодного окисления,
  • С тремя алюминиевыми вакуумными патронами: наружный диаметр 8 мм, 15 мм, 55 мм.
  • 4,7-дюймовая ЖК-панель на английском языке
  • Безмасляный вакуумный насос с низким уровнем шума.
  • Серводвигатель, большая стабильность

Доступно для предзаказа

Лабораторная вакуумная установка AC300 предназначена для нанесения и проявления фоторезиста методом центрифугирования, подходит для подложек диаметром до 300 мм. Установка является экономичным решением для лабораторного применения.
AC300 – настольная система проявления фоторезиста, которая имеет компактный размер и может быть установлена в различные лаборатории и другие учреждения, где требуется миниатюрные инструменты для работы с фоторезистом.

 

 

Модель AC300 Лабораторная вакуумная установка для нанесения тонких пленок и фоторезиста до 300 мм
Максимальный образец пластины 12 дюймов (300 мм)
Материал камеры ПНД
Вакуумный патрон 3 шт. стандартный вакуумный патрон
Размер: наружный размер 8 мм, 15 мм, 55 мм для немедленного использования.
Возможен заказной вакуумный патрон
Скорость центрифуги 100~5000 об/мин
Диапазон регулировки ускорения 0~10000об/мин/с
Максимальное время нанесения покрытия на каждом этапе 1-3000 сек (шаг — 1 сек)
Мощность серводвигателя 200 Вт
Контроль вращения Программируемое управление, 100 программируемых с каждыми 100 шагами, можно восстановить
Разрешение вращения 1 об/мин
Источник питания 230В, регулируемый
Габаритные размеры (ДxШxВ) 613x463x306 мм
Вес Нетто/Брутто Кг