Лабораторная вакуумная установка AC200-V предназначена для нанесения и проявления фоторезиста методом центрифугирования, подходит для подложек диаметром до 200 мм. Установка является экономичным решением для лабораторного применения.
AC200-V – настольная система проявления фоторезиста, которая имеет компактный размер и может быть установлена в различные лаборатории и другие учреждения, где требуется миниатюрные инструменты для работы с фоторезистом.
Лабораторная установка для нанесения покрытий
AC200-V Лабораторная вакуумная установка для нанесения тонких пленок и фоторезиста до 200 мм
Наличие:
Доступно для предзаказа
Особенности
- 7-дюймовая ЖК-панель с инструкцией по эксплуатации на английском языке
- Конструкция закрытой вакуумной камеры из Телона/полиэтилена, подходящая для нанесения различных покрытий на образцы.
- Максимальная скорость нанесения покрытия может достигать 10000 об/мин, также можно сделать индивидуальный заказ.
- Серводвигатель, больше стабильности
- Система вытяжки и откачки в нижней части сцены для эффективной вытяжки и однородности покрытия.
Доступно для предзаказа
Модель | AC200-V Лабораторная вакуумная установка для нанесения тонких пленок и фоторезиста до 200 мм |
---|---|
Максимальный образец пластины | 8 дюймов (200 мм) |
Материал камеры | ПНД |
Вакуумный патрон | 3 шт. стандартный вакуумный патрон Размер: наружный размер 8 мм, 15 мм, 55 мм для немедленного использования. Возможен заказной вакуумный патрон |
Скорость центрифуги | 100~12000 об/мин |
Диапазон регулировки ускорения | 0~50000 об/мин/с |
Максимальное время нанесения покрытия на каждом этапе | 1-3000 сек (шаг — 1 сек) |
Мощность серводвигателя | 200 Вт |
Контроль вращения | Программируемое управление, 100 программируемых с каждыми 100 шагами, можно восстановить |
Разрешение вращения | 1 об/мин |
Источник питания | 230В, регулируемый |
Габаритные размеры (ДxШxВ) | 433x306x306 мм |
Вес Нетто/Брутто | Кг |