CY-SC8-SS установка для нанесения тонких пленок и фоторезиста до 200 мм c вакуумным насосом
CY-SC8-SS установка для нанесения тонких пленок и фоторезиста до 200 мм c вакуумным насосом
CY-SC8-SS установка для нанесения тонких пленок и фоторезиста до 200 мм c вакуумным насосом
CY-SC8-PP Лабораторная вакуумная установка для нанесения тонких пленок и фоторезиста до 200 мм

CY-SC8-SS установка для нанесения тонких пленок и фоторезиста до 200 мм c вакуумным насосом

Наличие:

Доступно для предзаказа

Особенности

  • 7-дюймовая ЖК-панель с инструкцией по эксплуатации на английском языке
  • Наличие вакуумного насоса
  • Корпус камеры изготовлен из нержавеющей стали
  • Конструкция закрытой камеры из Телона/полиэтилена, подходящая для нанесения различных покрытий на образцы.
  • Максимальная скорость нанесения покрытия может достигать 10000 об/мин, также можно сделать индивидуальный заказ.
  • Серводвигатель, больше стабильности
  • Система вытяжки и откачки в нижней части сцены для эффективной вытяжки и однородности покрытия.

Доступно для предзаказа

Узнать цену

Лабораторная вакуумная установка CY-SC8-SS c вакуумным насосом предназначена для нанесения и проявления фоторезиста методом центрифугирования, подходит для подложек диаметром до 200 мм. Установка является экономичным решением для лабораторного применения. Корпус камеры изготовлен из нержавеющей стали.
CY-SC8-SS – настольная система проявления фоторезиста, которая имеет компактный размер и может быть установлена в различные лаборатории и другие учреждения, где требуется миниатюрные инструменты для работы с фоторезистом.

Применение спин-коутера CY-SC8-SS c вакуумным насосом

  • Спин-коутер может наносить жидкие или коллоидные материалы на кремниевые пластины, кристаллы, кварц, керамику и другие подложки для формирования тонких пленок.
  • Он в основном используется для нанесения фоторезистивного покрытия, подготовки биологической среды, золь-гель метода для производства полимерной пленки и т. д.
Категория:
Модель CY-SC8-SS установка для нанесения тонких пленок и фоторезиста до 200 мм c вакуумным насосом
Макс. образец пластины Диаметр < 8 дюймов (~200 мм)
Вакуумный патрон  4 шт. (материал алюминиевый сплав, диаметр 10 мм, 25 мм, 55 мм, 100 мм)
Возможен заказной вакуумный патрон
Скорость центрифуги 0-9999 об/мин , регулируемая
Диапазон регулировки ускорения 100-5000 об/сек
Разрешение вращения 1 об/мин
Время одного шага 3000 с
Материал камеры нержавеющая сталь
Верхняя крышка камеры PMMA (Полиметилметакрилат)
Метод работы Кнопка + ЖК-экран
Метод дозирования Ручное дозирование, опциональный прецизионный шприцевой насос
Кривая покрытия 5 сегментов на кривую, всего можно сохранить 5 кривых
Порт для насоса Быстрый винтовой интерфейс Ф8мм
Вакуумный насос (опция)
Вакуумный насос Безмасляный насос (Сухой механический насос)
Скорость откачки 50 л/мин
Источник питания 230В
Размеры и вес
Габаритные размеры (ДxШxВ) 290x365x310 мм
Размеры упаковки (ДxШxВ) 540x365x435 мм
Вес Нетто/Брутто 22/25 Кг

Похожие товары