Лабораторная установка для нанесения покрытий
EZ4 Лабораторная установка для нанесения тонких пленок и фоторезиста
Наличие:
Доступно для предзаказа
Особенности
- Максимум для покрытия пластины шириной 100 мм.
- Материал: алюминиевый корпус анодного окисления,
- С тремя алюминиевыми вакуумными патронами: наружный диаметр 8 мм, 15 мм, 55 мм.
- ЖК-панель на английском языке
- Безмасляный вакуумный насос с низким уровнем шума
Доступно для предзаказа
Лабораторная установка EZ4 предназначена для нанесения и проявления фоторезиста методом центрифугирования, подходит для подложек диаметром до 100 мм или с размерами до 75х75 мм. Установка является экономичным решением для лабораторного применения.
EZ4 – настольная система проявления фоторезиста, которая имеет компактный размер и может быть установлена в различные лаборатории и другие учреждения, где требуется миниатюрные инструменты для работы с фоторезистом.
Комплектация:
- Центрифуга EZ4 – 1 шт.
- Вакуумный насос – 1 шт.
- Кабель питания – 1 шт.
- Инструкция по эксплуатации — 1 шт.
- Набор держателей – 1 комплект.
| Модель | EZ4 Лабораторная установка для нанесения тонких пленок и фоторезиста |
|---|---|
| Размер камеры | 110 мм |
| Макс. образец пластины | Диаметр. 4 дюйма (~ 100 мм) |
| Вакуумный патрон | 3 шт. стандартный вакуумный патрон Размер: наружный диаметр 8 мм, 15 мм, 55 мм для немедленного использования. Возможен заказной вакуумный патрон |
| Время работы | 1-3000 сек (шаг — 1 сек) |
| Скорость вращения центрифуги | 100-9999 об/мин (шаг — 1 об/мин). |
| Ускоренная скорость | 100~5000 об/мин |
| Разрешение вращения | 1 об/мин |
| Режим работы | Кнопка — ЖК-экран |
| Материал камеры и верхней крышки | ПММА |
| Контроль вращения | Программируемое управление, 5 программируемых с каждыми 5 шагами, можно восстановить |
| Метод нанесения клея | Вручную |
| Вакуумный патрон | 3 детали (алюминиевый сплав диаметром 10 мм, 25 мм и 55 мм) |
| Вакуумный насос | В комплект входит один безмасляный насос |
| Скорость откачки | 50 л мин |
| Интерфейс прокачки | 4>6 быстродействующий интерфейс |
| Источник питания | 220 В переменного тока, 50 Гц |
| Габаритные размеры (ДxШxВ) | 210х265х215 мм |
| Размеры упаковки (ДxШxВ) | 420x340x295 мм |
| Вес Нетто/Брутто | 10/15 Кг |
Похожие товары
-
Лабораторная установка для нанесения покрытий
AC200 Лабораторная установка для нанесения покрытий диаметром до 20см
Лабораторная установка для нанесения покрытийAC200 Лабораторная установка для нанесения покрытий диаметром до 20см
Особенности
- Лабораторная установка AC200 предназначена для нанесения и проявления фоторезиста методом центрифугирования, подходит для подложек диаметром до 200 мм или квадратных с размерами до 150х150 мм.
- Матриал: алюминиевый корпус анодного окисления,
- Прямой привод центрифуги
- Дозирование вручную либо автоматически с помощью моторизированного шприца или насоса
- Прозрачная крышка
- Интерфейс: 4,7-дюймовый сенсорный экран на английском языке
- С тремя алюминиевыми вакуумными патронами: наружный диаметр 8 мм, 15 мм, 55 мм.
- Безмасляный вакуумный насос с низким уровнем шума.
- Серводвигатель, большая стабильность
- Наличие сенсорной ручки (стилуса), который позволяет работать в перчатках и минимизировать касания дисплея.
- Прозрачная крышка дает возможность оператору контролировать процесс нанесения фоторезиста и наблюдать за ускорением.
- Универсальные держатели позволяют работать с большим количеством образцов различной формы и размеров.
- Дренажное отверстие позволяет осуществлять слив отработанного вещества в специальный отсек.
- Датчик закрытия крышки и сенсор вакуума, позволяет контролировать процессом перед началом работы и включением рецепта.
SKU: n/a -
Лабораторная установка для нанесения покрытий
CY-EVP170S-1S-A Настольная установка для нанесения термического испарения
Лабораторная установка для нанесения покрытийCY-EVP170S-1S-A Настольная установка для нанесения термического испарения
Особенности
- Настольная установка для нанесения покрытия методом термического испарения с полостью из нержавеющей стали представляет собой небольшую настольную установку для нанесения покрытия методом термического испарения, специально разработанную для высокого вакуума.
- CY-EVP170S-1S-A может обеспечивать максимальный ток нанесения покрытия 100 А, максимальную температуру испарения до 1800 ℃ и может выдерживать испарение различных распространенных материалов. металл и часть неметалла.
- Вакуумная камера изготовлена из нержавеющей стали и перед поставкой дегазирована. CY-EVP170S-1S-A может достигать предельного вакуума 5×10-5Па с помощью группы молекулярных насосов, что соответствует вакууму, необходимому для испарения большинства материалов.
- Вакуумная камера открывается путем поднятия крышки для облегчения подъема.
- Камера оборудована адаптивным смотровым окном с перегородкой для наблюдения за процессом нанесения покрытия. Перегородка может эффективно предотвратить загрязнение смотрового окна пленочным материалом.
SKU: n/a -
Лабораторная установка для нанесения покрытий
IC8000 Вакуумная установка для нанесения покрытий с нагреваемой пластиной до 200 градусов
Лабораторная установка для нанесения покрытийIC8000 Вакуумная установка для нанесения покрытий с нагреваемой пластиной до 200 градусов
Особенности
- 7-дюймовая ЖК-панель на английском языке
- Размеры пластин/подложек – 10~30 мм
- Максимальная температура нагрева 200 градусов
- Конструкция закрытой вакуумной камеры из Тефлона/полиэтилена, подходящая для нанесения различных покрытий на образцы.
- Максимальная скорость нанесения покрытия может достигать 8000 об/мин, также можно сделать заказ по индивидуальному заказу.
- Серводвигатель, больше стабильности
SKU: n/a -
Лабораторная установка для нанесения покрытий
Настольная установка для нанесения покрытий магнетронным распылением
Лабораторная установка для нанесения покрытийНастольная установка для нанесения покрытий магнетронным распылением
Особенности
- Настольная установка для магнетронного напыления с одной целью – это высокопроизводительное оборудование для магнетронного напыления, независимо разработанное нашей компанией, которое обладает характеристиками миниатюризации и стандартизации.
- Мишень магнетрона может быть выбрана из 1 дюйма или 2 дюймов, и клиенты могут выбирать в зависимости от размера подложки, на которую будет нанесено покрытие;
- Источник питания представляет собой источник постоянного тока мощностью 150 Вт, который можно использовать для напыления металла.
- Устройство для нанесения покрытий оснащено вентиляционным отверстием, которое можно заполнить защитным газом. Если заказчику необходимо смешать газ, вы можете связаться с персоналом для настройки высокоточного массового расходомера в соответствии с потребностями эксперимента.
- Прибор оснащен усовершенствованным турбомолекулярным насосом, предельный вакуум может достигать 1,0E-5Па. Также можно приобрести другие типы молекулярных насосов.
SKU: n/a -
Лабораторная установка для нанесения покрытий
CH-150T Лабораторная вакуумная установка для нанесения покрытий диаметром 150 мм
Лабораторная установка для нанесения покрытийCH-150T Лабораторная вакуумная установка для нанесения покрытий диаметром 150 мм
Особенности
- Лабораторная установка CH-150T предназначена для нанесения и проявления фоторезиста методом центрифугирования, подходит для подложек диаметром до 150 мм или квадратных с размерами до 100х100 мм.
- Матриал: алюминиевый корпус анодного окисления,
- С тремя алюминиевыми вакуумными патронами: 2 дюйма, 4 дюйма, 6 дюймов;
- ЖК-панель на английском языке
- Безмасляный вакуумный насос с низким уровнем шума
SKU: n/a